該設備采用特定的光譜取代原有光源，使用全新的測試線路及測量方式，大幅提高了設備的精度及效率。目前使用設備頻率調整精度可達±5PPM，合格率98.5%以上，各項指標達到國際先進水平。擁有自主知識產權的設備研發，使公司具有持續創新能力，經過設備升級，可加工更小型的1毫米系列產品。

　　該設備的研發成功不僅極大提高了產品品質及生產效率，而且設備性能優勢得到日本同行的高度認可。目前已交付多套給某全球著名同行，得到該全球巨頭同行的高度評價。

　　早在十一年前，我司領導高瞻遠矚，幾乎與全球巨頭同步開展半導體光刻工藝在壓電晶體行業的研究，同時開始一系列相關裝備的自主研制。幾十道工序的半導體工藝關鍵裝備，經過近十代設計更新換代，已開始列裝生產一線，一系列半導體光刻工藝設備隨產品制程工藝同步研發，在高精度、自動化程度上不斷升級優化。獨有的裝備自主研制能力，是我司產品、工藝、技術等多學科高度集成、走在前列的體現，也是泰晶科技邁向全球頭部戰略的重要保障。